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详细介绍
品牌 | GEMTOP/喆图 | 价格区间 | 面议 |
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产地类别 | 国产 | 应用领域 | 综合 |
用途概述
VCD系列HMDS真空镀膜机化学名叫六甲基二硅胺烷(别名六甲基二硅氮烷),HMDS真空镀膜机又称HMDS基片预处理系统,指需在低真空度下进行的镀膜。喆图HMDS真空镀膜机对箱体内预处理过程的工作温度、工作压力、处理时间、处理时保持时间等参数的控制,可以在硅片、衬底表面完成 HMDS成底膜的工艺。降低了光刻胶的用量,所有工艺都在密闭的环境中进行,没有HMDS挥发,提高了安全性。主要适用于硅片、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料,为基片在涂胶前改善表面活性,增加光刻胶与基底的粘附力的设备,也可用于晶片其它工艺的清洗,尤其在芯片研发和生产领域应用更加普及。
产品特点
u 采用PLC工控自动化系统,人机界面采用触摸屏,具有可靠性高,操作智能方便VDM系列HMDS真空镀膜机。
u PLC微电脑PID控制系统具有自动控温、定时、超温报警等,彩色触摸屏显示,控温可靠;
u 智能化触摸屏控制系统,可根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间;
u 采用钢化玻璃观察窗,监测方便,一体成型的硅橡胶门封,确保箱内密封性好;
u 外壳和加热管均采用不锈钢材质,内胆不锈钢,无易燃易爆装置,无发尘材料;
u 以蒸汽的形式涂布到晶片表面,液态涂布均匀,可一次处理4盒以上的晶片,节省药液。
u 去水烘烤和增粘(疏水)处理一机完成无需转移,有效规避HMDS泄露的风险VCD系列HMDS真空镀膜机;
u HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,使真空箱密封性好,确保HMDS气体不外漏;
u 多余的HMDS蒸汽(尾气)由真空泵抽出,排放到专用废气收集管道,确保安全以及环保。
HMDS预处理系统的必要性
将HMDS涂到晶片表面后,经HMDS真空镀膜机加温后可反应生成以硅氧烷为主体的化合物,
它可将硅片表面由亲水变为疏水,起着耦合作用,可更好与光刻胶结合,保证涂胶工艺不影
响光刻效果和显影。
HMDS本身是表面改性,不会涂在圆片表面,HMDS上面涂胶不影响HMDS的处理效果。
HMDS处理后需要冷却后涂胶,建议4小时内完成涂胶。
HMDS真空镀膜机预处理程序
HMDS(六甲基二硅胺)是黄光区最毒的东西,HMDS真空镀膜机预处理程序为:打开
真空泵抽真空,待腔内真空度达到某一高真空度后,开始充入氮气,充到一定低真
空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保
持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空,充入
通过氮气的HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,
使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,
完成整个作业过程。
技术参数:
型号 | VCM-90 | VCM-125 | VCM-210 |
电源电压 | AC 220V 50Hz | ||
控制系统 | PLC控制 | ||
仪表控制 | 彩色触摸屏 | ||
控温范围 | RT+10-250℃ | ||
温度分辨率 | 0.1℃ | ||
温度波动度 | ±0.5 | ||
真空度 | ≤133pa | ||
内胆尺寸 | 450*450*450 | 500*550*500 | 550*550*650 |
容积 | 90L | 125L | 210L |
真空泵 | 选配 | 选配 | 选配 |
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