在实验室设备领域，客户的再次选用，往往体现设备性能、运行表现与服务支持的累积反映。近日，立式真空干燥试验箱TZF-6050LUB凭借运行表现稳定、干燥性能细致高效的特点，获得老客户再次选用，达成新的合作。这份信任，反映了设备在关键指标上的稳定表现与细致服务，也体现出“以性能赢评价，以服务伴客户”的初衷，顺应了市场对运行稳定、效率良好、控温细致的真空干燥设备的需求。
此次再次选用的老客户，是一家长期专注光学新材料领域的 高 新 技 术 企 业 ，主要从事光热材料、光学晶体、光热薄膜等产品的研发与生产，对真空干燥设备的控温精度、运行稳健性及洁净条件有明确要求。该客户此前已采购一台TZF-6050LUB，用于光学新材料样品的干燥、脱泡及性能测试，重点适配相变储热材料、钙钛矿薄膜等热敏易氧化样品。经过较长时间的实际应用，设备表现符合并超出使用预期，因而决定再次采购以扩充配套。
细致性能表现，成为客户再次选用的缘由
TZF-6050LUB作为适用于光学新材料、电子半导体等方向的真空干燥设备，其多项设计可贴合该类领域的使用需求。光学新材料常具有热敏、易氧化、结构精细等特点，干燥过程中易发生变质或氧化，而该设备的性能特点可应对这类情况，结合客户反馈，优势较为明显。
控温控湿细致，利于保障干燥效果
设备配备智能PID控温系统与高精度传感器，控温精度可达±0.5℃，温度波动较小，有助于减少钙钛矿光热薄膜等样品在干燥中发生分解或性状改变，可满足低温干燥的需要。设备还可灵活调节真空度（可低至10?Pa以下），较快形成洁净且缺氧的环境，既有助于提升干燥效率，也可减少金属基、碳基光学材料的氧化风险，利于保持样品纯度与性能，对多孔光热材料孔道结构的保持也有助益。
运行稳健，减少维护投入
设备内胆采用304不锈钢镜面材质，表面平整易清洁，符合光学新材料研发对洁净条件的需要；加厚保温层设计使箱内温度分布较为均匀（±2℃），利于批量样品获得相近的干燥结果。配置的真空泵与加热组件运行平稳、故障发生率较低，可帮助客户减少维护投入与停机影响，这是客户再次选用的考虑之一。
操作便捷，适用多种场景
立式结构占地紧凑、空间利用较为充分，适合实验室及小型生产场地使用；高清触摸屏使操作直观易学，支持参数记忆、定时设置及数据导出，可配合无人值守工况，提升实验效率。设备设有多重安全防护，帮助保障设备与人员的安全，缓解使用顾虑。
再次选用源于性能与服务的累积
老客户再次选用，既是对设备性能特点的评价，也是对服务支持的反映。客户反馈，当初选用TZF-6050LUB，是因其设计可贴合光学新材料领域的应用需要，且技术成熟；在长期使用中设备运行稳定、故障少，遇到操作疑问可获得及时的技术解答，上门维护响应及时，这让后续使用更为安心。
当前，光学新材料领域持续发展，用户对真空干燥设备的要求不断提升。TZF-6050LUB之所以受到不少用户选用，是因为其设计考虑了该类领域的实际需求，兼顾专业特点与实际应用，可配合实验室的细致研发，应对样品干燥中的难点，也能配合小型规模化生产，顺应使用趋势。据了解，该设备自推出以来，已在多家科研机构与高 新 技 术 企 业中使用，应用于光热材料干燥、光学晶体脱泡等场景，凭借运行稳定、服务细致积累了较多正面评价，不断有用户再次选用。此次合作，既体现信任，也带来持续完善的动力，印证了“以性能立身、以服务致远”的方向。
秉持初衷，助力行业应用拓展
用户的信任是持续完善产品的动力。此次再次选用，既反映TZF-6050LUB在立式真空干燥试验应用中的稳定表现，也体现了对光学新材料领域使用需求的回应。未来，设备将在保持性能特点的基础上，结合行业发展与用户反馈，持续优化功能与服务体系，为光学新材料等方向提供更可靠的真空干燥方案，帮助用户应对干燥过程中的难点。同时，将以此次合作为契机，进一步听取光学新材料领域用户的意见，聚焦使用痛点进行改进，用适用的产品与细致的服务回馈选择，协助用户提升研发效率与样品品质，持续在实验室设备领域深耕，以市场反响拓市场、以实际表现促发展，为光学新材料等领域的应用推进提供支持。
